各大晶圓代工廠此前在沒有EUV的情況下進(jìn)行過7納米制程生產(chǎn)，但隨后決定采用這一新技術(shù)減少光刻步驟量進(jìn)而提高產(chǎn)能。而對(duì)于5納米制程而言，代工廠在使用EUV的情況下一般只需" />

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性能與能效改進(jìn)情況

時(shí)間：2022-04-29 15:27:01 | 來源：行業(yè)動(dòng)態(tài)

時(shí)間：2022-04-29 15:27:01 來源：行業(yè)動(dòng)態(tài)

來源：三星;臺(tái)積電(與原有節(jié)點(diǎn)的原始版本比較)

各大晶圓代工廠此前在沒有EUV的情況下進(jìn)行過7納米制程生產(chǎn)，但隨后決定采用這一新技術(shù)減少光刻步驟量進(jìn)而提高產(chǎn)能。而對(duì)于5納米制程而言，代工廠在使用EUV的情況下一般只需要10到12輪光刻操作;但如果繼續(xù)沿用舊有技術(shù)，那么可能需要30個(gè)甚至更多操作步驟。

由于包含這些圖案的光掩模非常昂貴，因此每一臺(tái)光刻機(jī)本身都代表著一項(xiàng)價(jià)值超過1億美元的投資。VLSI Research的G. Dan Hutcheson表示，EUV的每層成本更高。但由于每塊晶圓都將在EUV技術(shù)的幫助下帶來更高凈收入，因此EUV無疑將成為未來一切制程工藝的核心。

關(guān)鍵詞：改進(jìn),情況,性能

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